設備構成及特點 本等離子體表面處理系統主要包括三個部分：真空腔及真空系統，等離子體發生器，控制系統。 1、 真空腔及真空系統 真空腔固定于機柜框架內，機柜的框架尺寸1722X1060X1840，左右兩側為可拆門，背面是對開的兩扇門，因此內部的真空腔及真空系統的維修是極方便的。真空腔尺寸600X600X600，可以同時處理九層較大尺寸為550X550的工件。真空腔及真空閥門固定于框架內。外置一臺粗抽泵與一臺羅茨真空泵，一個與真空泵連接的電磁充氣閥門，一臺變頻器控制真空泵的轉速，進行閉環控制，保持真空腔的動態平衡，真空腔體內真空度在正常工作范圍內。四個給真空腔充入微量氣體的比例流量閥。用此閥可調節氣體的進氣量，以滿足等離子表面處理工藝對氣體流量和氣體比例的要求。為了便于控制，在可調節比例流量閥后串有四個電磁真空擋板閥門。一個給真空腔破真空用的電磁充氣閥門。真空計是在腔體內壓強低于2.7X103才顯示的數顯真空計，可設三個控制真空度，本機90－100Pa為充入微量氣體的真空度，30Pa為放電下限，100Pa為放電上限。 2、 等離子體發生器 等離子體發生器在30Pa--100Pa間給電極板施加電壓，產生低溫等離子體，見圖4等離子體電源框圖。利用高頻轉換技術形成500V、40KHZ的高頻電壓加到電極板上，當真空腔內達到一定真空度時，產生等離子體放電現象，放電后電路會自動調節電壓到適合的值，電路正常穩定放電。 3控制系統 通過PLC可編程控制器來控制真空泵的開、關，電磁閥門的開、關，等離子發生器電源的開、關，充入微量氣體流量，放電真空度，放電功率，放電時間，充入氣體的預熱時間，處理工藝的配方管理，處理階段及每一階段處理時間等。分自動和手動兩種方式，見圖5控制方式圖。其中設置參數包括階段選擇設置，每一個階段的運行時間設置，每一個階段的每一種氣體流量的設置，充入微量氣體的真空度設置及放電真空度的設置。 圖5 控制方式圖 二、 技術參數 輸入電壓 380V三相50Hz 輸出電壓 0--500V 輸出電壓頻率 40KHz±100Hz 輸出功率 有效功率5Kw,峰值功率12Kw 輸出過載電流 20A 放電真空度 30-100Pa 充入微量氣體真空度 90－100Pa 極間距離 33mm 可加載氣體 H2、N2、Ar4、O2等等，可同時接通4種氣體