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半導體/電子廠房潔凈室的控制
根據半導體/電子行業的潔凈控制要求來看，控制的主要污染源為環境含塵量，在潔凈技術方面，可采取三種綜合性措施：
5.1 空氣過濾
一般的潔凈室空氣處理系統采用三級處理過程。級——粗效過濾器，用于保護空調器不受污染；第二級——采用中效過濾器保護風管的潔凈度；第三級——采用過濾器量的空氣直接進入潔凈室。
5.2 采用適當的氣流類型
氣流類型一般有兩類，一類為單向流，常稱作層流；另外一類為為非單向流，也稱作紊流；可根據不同的需求，進行不同的控制。
5.3 各室之間的壓差
一般來說，小于5Pa的壓差是毫無意義的，因為難以阻止空氣回流；壓差大于20Pa（隔離工藝處外）是不合理的，因為并不能改善潔凈室的特性，反而形成浪費，故而，壓差在5～20 Pa范圍內即可，不同等級的潔凈室以及潔凈區與非潔凈區的壓差應不小于5Pa,潔凈區與室外的壓差，應不小于10Pa，特殊要求除外。
另外，通風空調系統在潔凈室工作中起著關鍵的作用，決定著系統功能與與設計的生產相符合，具體設計應按具體情況在小的投資和運行費用的前提下編制方案。所有的運行控制皆應按照上述四個方面進行。
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